拜託快點救救我，我要知道這些污染源 - 空氣污染

By Agnes
at 2009-04-06T00:00

Table of Contents

我要做一份環境的報告，所以我想知道說半導體工廠、朔膠工廠以及美容用瓶等製造，會造成什麼樣的空氣污染?會排放出何種毒素?!!對我們人體會有什麼傷害!!
拜託救救我

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By Isabella
at 2009-04-07T17:42

你好！希望我的回覆能幫忙到你~~~
報告涵蓋範圍相當廣泛想要完美的呈現實在不容易，由於半導體、塑膠製品、美容用品(化妝品?)之製程及排放污染物差異甚大，建議報告僅針對其中一種產業進行介紹即可，報告製作方式建議包括：(1)製程介紹，(2)空氣污染源，(3)對人體之危害等內容，以下提供一些方向及資料，希望能夠順利完成！
★半導體製造業
1.製程介紹
半導體製程是由原料晶圓片，經由不斷的重覆光學顯影（黃光製程）、蝕刻、薄膜沉積等步驟，最後經由封裝製造而成。原料晶圓片是將二氧化矽，經由電弧爐冶煉、多晶矽融解、單晶矽晶棒拉出、研磨、拋光、切片而製成。黃光製程是利用光學顯影之方式，把光罩上的圖形經過曝光和顯影的程序，轉換到光阻劑下面的薄膜層或矽晶上。蝕刻便是用化學方式（強酸、電漿或強氧化劑）將晶圓上的某一部份物質去除，保留下有作用的線路。在氣態狀況下採用的蝕刻化學通常呈現電漿狀況，稱為乾式電漿蝕刻。化學氣相沉積是以氣相沉積技術在晶圓表面沈澱出絕緣膜、氮化矽、氧化矽及其它非磊晶薄膜。在此製程中，氣體化學物，經由熱、氧化物及電場能量在晶圓的表面形成薄膜。離子植入製程中一般應用的離子束是由元素混合物和某一元素所產生，利用離子束可以非常精確的控制半導體晶片中的電流，使得晶片在所需要的區域內元件，可以精確集中地沈積。物理氣相沉積如同化學氣相沉積過程，利用物理氣相沉積技術在高真空中的純物質（矽晶）表面上，噴出鋁或其它金屬，以沈積成薄膜，讓微粒相互結合獲得純金屬。化學機械式研磨法是把晶片表面起伏的介電層加以平坦化的一項技術。封裝是製程的最後一道手續，包含切割和打線的過程，屬於IC製程中用電量較少的作業。切割是晶圓經過所有的製程處理及測試後，切割程壹顆顆的IC，然後經由焊線、封膠、電鍍等製程。
2.空氣污染源
半導體製造業在每一製程都需使用大量之無機酸、無機氣體或有機溶劑，因此每一製程皆會排放廢氣。原料晶圓片生產製程主要之空氣污染物為酸性氣體，黃光製程使用大量有機溶劑，因此空氣污染物為揮發性有機污染物（VOCs），蝕刻製程之主要空氣污染物為酸、鹼。薄膜沉積製程（化學氣相沉積、物理氣相沉積、離子植入）使用大量無機毒性氣體，主要空氣污染物為酸、鹼和該無機毒性氣體。而封裝製程之主要空氣污染物為VOCs和酸氣。
資料來源：各行業空氣污染防制技術輔導及案例
http://www.green99.com.tw/
3.對人體之危害等內容
<酸性氣體>
依據Soskolne et al.研究中指出，勞工長期在工作場所中接觸酸性氣體與上呼吸道罹患癌症間的關係。研究是在1944~1980 年間，針對50位勞工長期暴露硫酸作業環境㆗所做的統計，結果發現有34位工人先後罹患喉癌，而罹患的勞工多數（98％）有抽煙及酗酒的習慣，顯示工作場所中硫酸暴露對於現場操作人員有潛在的健康危害。
http://www.iosh.gov.tw/data/f16/shp10_1_1.pdf
<揮發性有機污染物(VOCs)>
大氣中常見揮發性有機物通常對人體健康有一定程度的影響，有害之VOC通常易導致神經毒、心肌毒性、心律不整與酸中毒、致癌危害(如：血癌)等毒性，其對人體健康具有潛在的危害性。
美國1996年公佈之「清潔空氣法修正案（Clean Air Act Amendments Title III）」所列出的188種有害空氣污染物中，VOCs即佔了70 %以上，其中有40種以上VOCs半衰期不超過一天，並會行光化學反應而生成臭氧。大多數的VOCs具有高滲透、易脂溶、高揮發性等特性，可經由接觸、呼吸方式而造成人體呼吸道、肺、肝、腎、神經系統等病變。若人體暴露於高濃度的VOCs會產生急性效應，對呼吸道與眼睛有刺激症狀。
http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qi...
★其他空氣污染物對人體的危害
http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qi...
http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qi...
http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qi...
http://www.nhcc.org.tw/nhcc/digital/environment/ai...

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